GM2000/04中试型胶体磨

实验(yan)室胶(jiao)体磨是由电动(dong)机(ji)通过皮带(dai)传(chuan)动(dong)带(dai)动(dong)转(zhuan)齿(chi)(chi)（或称(cheng)为转(zhuan)子(zi)）与相配的定(ding)(ding)齿(chi)(chi)（或称(cheng)为定(ding)(ding)子(zi)）作相对的高速旋(xuan)转(zhuan)，被加工物(wu)(wu)料(liao)通过本(ben)身(shen)的重量或外(wai)部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋(xuan)冲击(ji)力，透过实验(yan)室胶(jiao)体磨定(ding)(ding)、转(zhuan)齿(chi)(chi)之(zhi)间的间隙（间隙可调(diao)）时受到(dao)强(qiang)大的剪切力、摩(mo)擦力、高频振动(dong)等(deng)物(wu)(wu)理作用，使物(wu)(wu)料(liao)被有效地乳化、分散和粉碎，达到(dao)物(wu)(wu)料(liao)超细粉碎及乳化的效果。

GM2000/04中试型胶体磨

我们的磨头的结构：沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下，而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大，这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。
GM2000/4实验室胶体磨是专门(men)为胶(jiao)体溶(rong)液生(sheng)产(chan)所设计，特(te)别是那(nei)些需(xu)要很(hen)好乳化和(he)分散效(xiao)果的(de)(de)(de)(de)(de)胶(jiao)体生(sheng)产(chan)。GM2000/4实验室胶(jiao)体磨的(de)(de)(de)(de)(de)线速度很(hen)高，剪(jian)切间隙非常小，这样当物料经过的(de)(de)(de)(de)(de)时候，形(xing)成的(de)(de)(de)(de)(de)摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的(de)(de)(de)(de)(de)湿磨。GM2000/4实验室胶(jiao)体磨的(de)(de)(de)(de)(de)定转子(zi)被制成圆(yuan)椎形(xing)，具有精细度递(di)升(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)三级(ji)锯齿突(tu)起和(he)凹槽。定子(zi)可(ke)以(yi)无限(xian)制的(de)(de)(de)(de)(de)被调(diao)整到所需(xu)要的(de)(de)(de)(de)(de)与转子(zi)之间的(de)(de)(de)(de)(de)距离。在增强的(de)(de)(de)(de)(de)流体湍流下(xia)，凹槽在每级(ji)都可(ke)以(yi)改变方向。高质量(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)表面抛光(guang)和(he)结构(gou)材料，可(ke)以(yi)满足不同行业(ye)的(de)(de)(de)(de)(de)多种要求。

在一般(ban)的情况下，我们(men)的机械密(mi)封(feng)可以(yi)zui大承受16bar压(ya)(ya)力(li)，根据机械密(mi)封(feng)的压(ya)(ya)力(li)一般(ban)要高于密(mi)封(feng)腔体的压(ya)(ya)力(li)2-3bar,这就(jiu)决定我们(men)的入口zui大压(ya)(ya)力(li)可以(yi)达到12-13bar.

同时机械密封的使用寿命和以下因(yin)素(su)有关：

满足以(yi)下条件(jian)使得(de)机械密(mi)封的使用寿命(ming)更长:

-可允许的压力比率

-充份的冷却和湿度

-材料的合适搭配.

机械密封本身会产(chan)生磨损(sun)和(he)破裂.磨损(sun)得主要(yao)原因是:

-压力差

-温度

-分散物料的腐蚀性

-密封的材料

转速:

7890/13789RPM可(ke)以(yi)通(tong)过(guo)变频调(diao)速(su)(su)(su)通(tong)过(guo)皮带(dai)加速(su)(su)(su)我们(men)轴承可(ke)以(yi)承受140000RPM（转速(su)(su)(su)是他(ta)们(men)的(de)3-4倍(bei)，研磨的(de)力度(du)也是他(ta)们(men)的(de)3-4倍(bei)，这样研磨的(de)细度(du)更小）。

SGN胶体磨结构：

三道磨碎区，一级为(wei)(wei)粗磨碎区，二级为(wei)(wei)细磨碎区，三级为(wei)(wei)超(chao)微(wei)磨碎区。虽然都是(shi)三级结构，但(dan)是(shi)他们的(de)设计不同理(li)念(nian)不同，形(xing)状及齿列(lie)的(de)结构。

SGN胶体(ti)磨磨头的(de)结构：

沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下，而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大，这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。
实验室胶体(ti)磨(mo)的(de)细化(hua)作用(yong)一般(ban)来说要(yao)弱于(yu)(yu)均质(zhi)(zhi)机(ji)，但(dan)它对物(wu)料的(de)适应能力较强（如高粘(zhan)度(du)、大(da)颗粒），所以(yi)在(zai)很多场合(he)下(xia)，它用(yong)于(yu)(yu)均质(zhi)(zhi)机(ji)的(de)前道或(huo)者用(yong)于(yu)(yu)高粘(zhan)度(du)的(de)场合(he)。在(zai)固态物(wu)质(zhi)(zhi)较多时(shi)也常常使用(yong)胶体(ti)磨(mo)进行细化(hua)。

公(gong)司另外一项(xiang)*的(de)(de)(de)创新(xin)，就是锥体磨(mo)(mo)(mo)GMO2000系列，它的(de)(de)(de)设计(ji)使其功能在原有(you)(you)的(de)(de)(de)GM2000的(de)(de)(de)基础(chu)上又进了一步。由(you)(you)于(yu)这项(xiang)创新(xin)，GMO2000能够(gou)湿磨(mo)(mo)(mo)和研(yan)磨(mo)(mo)(mo)，产生(sheng)的(de)(de)(de)颗粒粒径(jing)甚至比胶(jiao)(jiao)体磨(mo)(mo)(mo)GM2000还小(xiao)(xiao)。研(yan)磨(mo)(mo)(mo)间隙可以(yi)无级调节，从而(er)可以(yi)得到精确(que)的(de)(de)(de)研(yan)磨(mo)(mo)(mo)参数。研(yan)磨(mo)(mo)(mo)头(tou)的(de)(de)(de)表(biao)面涂上了一层(ceng)极其坚硬的(de)(de)(de)硬质(zhi)材(cai)料(liao)(liao)，从而(er)使其表(biao)面具有(you)(you)非常粗糙的(de)(de)(de)纹理(li)。这种硬质(zhi)材(cai)料(liao)(liao)是由(you)(you)碳化物(wu)、陶瓷等高质(zhi)量物(wu)质(zhi)构(gou)成，并且具有(you)(you)不同的(de)(de)(de)粒径(jing)。研(yan)磨(mo)(mo)(mo)头(tou)处形(xing)成了一个具有(you)(you)强烈剪切的(de)(de)(de)区域，可以(yi)输送高粘度和低粘度物(wu)料(liao)(liao)，但它的(de)(de)(de)分(fen)散(san)效果和zui后(hou)的(de)(de)(de)粒径(jing)大小(xiao)(xiao)都比胶(jiao)(jiao)体磨(mo)(mo)(mo)GM的(de)(de)(de)效果更加理(li)想。

GM2000/4（LP系列）为(wei)实验室胶体磨的技术参数：功率1.5-2.2KW,转(zhuan)(zhuan)速0-14000rpm,线速度0-40m/s,电压380V,机器产量为(wei)0–700升/小时(shi)（水），重(zhong)量35KG,尺寸（长(zhang)宽高）（450X250X350）MM，LP使(shi)(shi)用(yong)轴(zhou)(zhou)封（PTFE环(huan)），在(zai)正(zheng)常的情况下(xia)，一(yi)般轴(zhou)(zhou)封可以(yi)使(shi)(shi)用(yong)3000-4000次。LP不能24小时(shi)连续(xu)使(shi)(shi)用(yong)，一(yi)般zui多(duo)可以(yi)使(shi)(shi)用(yong)连续(xu)半个小时(shi)，这要(yao)依据(ju)料液(ye)的温度和转(zhuan)(zhuan)速而定。LP也可以(yi)通(tong)过变换模块，可以(yi)实现多(duo)功能多(duo)用(yong)途，是实验室中试生(sheng)产的选择。