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  • GMD2000布洛芬小儿口服混悬液分散胶体磨
    布洛芬小儿口服混悬液分散胶体磨

    布(bu)洛芬小儿口服混悬(xuan)液(ye)分(fen)散(san)胶体磨,主要用(yong)于(yu)(yu)微乳液(ye)及(ji)超细悬(xuan)浮液(ye)的(de)(de)生产。由于(yu)(yu)工(gong)作腔体内(nei)三组分(fen)散(san)头(定(ding)子+转子)同时工(gong)作,乳液(ye)经过高剪切后(hou),液(ye)滴更细腻,粒径分(fen)布(bu)更窄,因而生成的(de)(de)混合(he)液(ye)稳(wen)定(ding)性更好。三组分(fen)散(san)头均易(yi)于(yu)(yu)更换,适合(he)不同的(de)(de)工(gong)艺(yi)应用(yong)。

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  • GM20000/4新推出矿物胶体磨
    新推出矿物胶体磨

    GM20000新推(tui)出矿物(wu)胶体磨适用(yong)于制药、食品、化工及(ji)(ji)其他行业的(de)(de)湿(shi)物(wu)料(liao)超微粉碎,能起到各种半湿(shi)体及(ji)(ji)乳状液物(wu)质的(de)(de)粉碎、乳化、均(jun)质和混合,主要技术指标(biao)已(yi)达到国外同类产品的(de)(de)水平。

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  • GM2000/4管线式内外墙涂料胶体磨
    管线式内外墙涂料胶体磨

    GM2000系列管线式内外(wai)墙涂(tu)料胶体(ti)磨的(de)(de)(de)(de)特点: ①定(ding)转(zhuan)子被制(zhi)成圆椎形,具有精细度递升的(de)(de)(de)(de)三级(ji)锯齿(chi)突起和凹槽(cao)。定(ding)子可(ke)以(yi)无限制(zhi)的(de)(de)(de)(de)被调整到所需要(yao)的(de)(de)(de)(de)与转(zhuan)子之(zhi)间的(de)(de)(de)(de)距离。 ②齿(chi)列的(de)(de)(de)(de)深度:从开始的(de)(de)(de)(de)2.7mm到末端的(de)(de)(de)(de)0.7mm,范围(wei)比(bi)较大,范围(wei)越(yue)大,处理的(de)(de)(de)(de)物料颗粒(li)大小(xiao)越(yue)广。 ③沟槽(cao)的(de)(de)(de)(de)结(jie)构(gou)式斜齿(chi),每个磨头(tou)的(de)(de)(de)(de)沟槽(cao)深度不一样,并且斜齿(chi)的(de)(de)(de)(de)流道的(de)(de)(de)(de)体(ti)积从上往(wang)下是从大到下。

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  • GM2000/4纳米三级内外墙涂料胶体磨
    纳米三级内外墙涂料胶体磨

    GM2000系列(lie)纳米三级内外墙涂料胶体磨的(de)(de)特点: ①定转子被(bei)制成圆椎(zhui)形(xing),具有精细度递(di)升的(de)(de)三级锯齿(chi)突(tu)起(qi)和凹槽。定子可以(yi)无(wu)限制的(de)(de)被(bei)调(diao)整到所需(xu)要的(de)(de)与转子之间的(de)(de)距离。 ②齿(chi)列(lie)的(de)(de)深度:从(cong)开始的(de)(de)2.7mm到末(mo)端(duan)的(de)(de)0.7mm,范围(wei)比较大,范围(wei)越(yue)(yue)大,处理的(de)(de)物(wu)料颗(ke)粒大小越(yue)(yue)广。 ③沟(gou)(gou)槽的(de)(de)结构式斜(xie)(xie)齿(chi),每个(ge)磨头(tou)的(de)(de)沟(gou)(gou)槽深度不一(yi)样,并且斜(xie)(xie)齿(chi)的(de)(de)流道的(de)(de)体积从(cong)上往(wang)下(xia)是从(cong)大到下(xia)。

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  • GM2000/4三级纳米湿法胶体磨
    三级纳米湿法胶体磨

    SGN三级纳米湿法胶(jiao)体磨的(de)(de)特点 ①线(xian)速(su)度很高,剪切间隙非常(chang)小,当物料经(jing)过(guo)的(de)(de)时候(hou),形(xing)成的(de)(de)摩擦力就比较剧烈,结(jie)(jie)果就是通常(chang)所(suo)(suo)说的(de)(de)湿磨。 ②定转(zhuan)子(zi)被(bei)制成圆椎形(xing),具有精细度递升的(de)(de)三级锯齿突起和凹槽。 ③定子(zi)可以无限(xian)制的(de)(de)被(bei)调整到(dao)所(suo)(suo)需要的(de)(de)与转(zhuan)子(zi)之间的(de)(de)距离 ④在增强(qiang)的(de)(de)流体湍(tuan)流下,凹槽在每级都可以改变方向。 ⑤高质(zhi)量的(de)(de)表面抛(pao)光和结(jie)(jie)构材(cai)料,可以满足不(bu)同(tong)行业的(de)(de)多种要求(qiu)。

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  • GM2000/4湿法超细胶体磨
    湿法超细胶体磨

    SGN湿法超细(xi)胶体(ti)磨(mo)的特点 ①线(xian)速度很高,剪切间(jian)隙(xi)非常小(xiao),当(dang)物(wu)料(liao)经过(guo)的时候,形成的摩擦力(li)就比(bi)较剧烈(lie),结果就是通常所说的湿磨(mo)。 ②定转(zhuan)(zhuan)子(zi)被(bei)制成圆椎(zhui)形,具有精细(xi)度递升的三(san)级(ji)(ji)锯齿突起(qi)和(he)凹槽。 ③定子(zi)可以无限制的被(bei)调整(zheng)到(dao)所需要的与转(zhuan)(zhuan)子(zi)之间(jian)的距离 ④在(zai)增强的流(liu)体(ti)湍流(liu)下(xia),凹槽在(zai)每级(ji)(ji)都可以改(gai)变方向。 ⑤高质量(liang)的表面抛光和(he)结构材料(liao),可以满足不(bu)同行业的多种要求。

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  • GM2000/4高速化工级胶体磨
    高速化工级胶体磨

    高速化(hua)(hua)(hua)工(gong)级胶体(ti)磨(mo)(mo)化(hua)(hua)(hua)工(gong)胶体(ti)磨(mo)(mo),化(hua)(hua)(hua)工(gong)乳(ru)(ru)化(hua)(hua)(hua)设备,,化(hua)(hua)(hua)工(gong)行业许多领(ling)域都(dou)会用到乳(ru)(ru)化(hua)(hua)(hua)设备对物料进行均(jun)质胶体(ti)磨(mo)(mo),如(ru):石蜡胶体(ti)磨(mo)(mo)、硅油(you)(you)乳(ru)(ru)化(hua)(hua)(hua),柴油(you)(you)乳(ru)(ru)化(hua)(hua)(hua)等(deng),为获得(de)高品(pin)质的化(hua)(hua)(hua)工(gong)乳(ru)(ru)液,就必须选(xuan)择效果(guo)好的乳(ru)(ru)化(hua)(hua)(hua)设备。

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  • GM2000/4超高速染料胶体磨
    超高速染料胶体磨

    GM2000系(xi)列超高(gao)速染(ran)料(liao)(liao)胶体(ti)磨与同(tong)(tong)类(lei)设(she)(she)备(bei)的(de)对比 .发(fa)热问题(ti)。同(tong)(tong)类(lei)设(she)(she)备(bei)在加工过程中,高(gao)粘物(wu)料(liao)(liao)进(jin)入腔(qiang)体(ti)后(hou),因背压力(li)大而(er)输送效果差(cha),导(dao)致物(wu)料(liao)(liao)在设(she)(she)备(bei)腔(qiang)体(ti)中停(ting)留时间(jian)过长而(er)导(dao)致严重(zhong)发(fa)热。GRS2000系(xi)列设(she)(she)备(bei)在确保效果的(de)基础上(shang),减小了背压阻力(li),提(ti)高(gao)了输送能力(li),减少(shao)了停(ting)留时间(jian),降低了物(wu)料(liao)(liao)发(fa)热的(de)状况。

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