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  • GMD2000布洛芬小儿口服混悬液分散胶体磨
    布洛芬小儿口服混悬液分散胶体磨

    布洛芬小儿口(kou)服(fu)混(hun)悬液(ye)分散(san)胶体(ti)磨,主要用(yong)于微乳液(ye)及超细悬浮液(ye)的(de)生(sheng)产(chan)。由(you)于工(gong)作(zuo)腔(qiang)体(ti)内三组(zu)(zu)分散(san)头(定(ding)子+转子)同时工(gong)作(zuo),乳液(ye)经过(guo)高剪(jian)切后,液(ye)滴更细腻,粒径分布更窄(zhai),因而生(sheng)成的(de)混(hun)合液(ye)稳定(ding)性更好。三组(zu)(zu)分散(san)头均易(yi)于更换,适合不同的(de)工(gong)艺(yi)应(ying)用(yong)。

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  • GM20000/4新推出矿物胶体磨
    新推出矿物胶体磨

    GM20000新(xin)推(tui)出矿(kuang)物(wu)胶(jiao)体磨适用(yong)于制药、食品、化(hua)工及其他行业的湿物(wu)料(liao)超微粉碎,能起到各(ge)种半(ban)湿体及乳状液物(wu)质(zhi)的粉碎、乳化(hua)、均(jun)质(zhi)和混合,主要技术(shu)指标已达到国外同类产品的水平。

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  • GM2000/4管线式内外墙涂料胶体磨
    管线式内外墙涂料胶体磨

    GM2000系列(lie)管线式内外墙涂(tu)料(liao)胶体磨的(de)特点(dian): ①定转(zhuan)子(zi)被制成(cheng)圆椎形(xing),具有(you)精细度递升的(de)三(san)级锯(ju)齿突起和凹槽(cao)(cao)。定子(zi)可以无限制的(de)被调整到所需要的(de)与转(zhuan)子(zi)之间的(de)距离。 ②齿列(lie)的(de)深度:从(cong)开(kai)始的(de)2.7mm到末端(duan)的(de)0.7mm,范围(wei)比较大(da),范围(wei)越大(da),处(chu)理的(de)物料(liao)颗粒大(da)小越广。 ③沟槽(cao)(cao)的(de)结构式斜齿,每个磨头的(de)沟槽(cao)(cao)深度不(bu)一(yi)样,并且斜齿的(de)流道的(de)体积从(cong)上往下(xia)是从(cong)大(da)到下(xia)。

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  • GM2000/4纳米三级内外墙涂料胶体磨
    纳米三级内外墙涂料胶体磨

    GM2000系列(lie)纳(na)米三(san)级内外墙涂料胶体磨(mo)的(de)(de)(de)(de)特点: ①定转子被制成圆椎形,具有精细度(du)(du)递(di)升的(de)(de)(de)(de)三(san)级锯(ju)齿突起和(he)凹(ao)槽。定子可(ke)以无限制的(de)(de)(de)(de)被调整到(dao)所需(xu)要的(de)(de)(de)(de)与转子之间(jian)的(de)(de)(de)(de)距离。 ②齿列(lie)的(de)(de)(de)(de)深度(du)(du):从开始的(de)(de)(de)(de)2.7mm到(dao)末端(duan)的(de)(de)(de)(de)0.7mm,范(fan)围比较大,范(fan)围越大,处理的(de)(de)(de)(de)物(wu)料颗粒大小越广。 ③沟(gou)槽的(de)(de)(de)(de)结构(gou)式斜齿,每个磨(mo)头的(de)(de)(de)(de)沟(gou)槽深度(du)(du)不一(yi)样,并且斜齿的(de)(de)(de)(de)流道的(de)(de)(de)(de)体积(ji)从上往下是从大到(dao)下。

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  • GM2000/4三级纳米湿法胶体磨
    三级纳米湿法胶体磨

    SGN三级(ji)纳米湿法胶体磨的(de)(de)(de)(de)特(te)点 ①线速度很(hen)高(gao)(gao),剪切间(jian)隙非(fei)常小,当物料经过的(de)(de)(de)(de)时候,形成的(de)(de)(de)(de)摩擦力就比较剧烈,结果就是通(tong)常所说的(de)(de)(de)(de)湿磨。 ②定转子(zi)被制成圆(yuan)椎形,具有精细度递升(sheng)的(de)(de)(de)(de)三级(ji)锯齿突(tu)起和凹槽。 ③定子(zi)可(ke)以无限(xian)制的(de)(de)(de)(de)被调整到所需要(yao)的(de)(de)(de)(de)与转子(zi)之间(jian)的(de)(de)(de)(de)距(ju)离(li) ④在增强的(de)(de)(de)(de)流体湍流下,凹槽在每(mei)级(ji)都(dou)可(ke)以改变方向。 ⑤高(gao)(gao)质量(liang)的(de)(de)(de)(de)表面抛光和结构材(cai)料,可(ke)以满足不同行业的(de)(de)(de)(de)多种要(yao)求。

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  • GM2000/4湿法超细胶体磨
    湿法超细胶体磨

    SGN湿法(fa)超(chao)细胶体磨(mo)的(de)(de)特点 ①线速(su)度(du)很高(gao),剪切间(jian)隙非常(chang)(chang)小,当物料经过(guo)的(de)(de)时候,形成(cheng)的(de)(de)摩(mo)擦力(li)就(jiu)比(bi)较剧烈,结果(guo)就(jiu)是通常(chang)(chang)所说的(de)(de)湿磨(mo)。 ②定(ding)转子被(bei)制(zhi)成(cheng)圆(yuan)椎(zhui)形,具有精细度(du)递升的(de)(de)三级锯齿突(tu)起和(he)(he)凹(ao)槽。 ③定(ding)子可(ke)以无限(xian)制(zhi)的(de)(de)被(bei)调整到所需要(yao)的(de)(de)与转子之(zhi)间(jian)的(de)(de)距离(li) ④在增强的(de)(de)流体湍流下,凹(ao)槽在每级都可(ke)以改变(bian)方向。 ⑤高(gao)质量的(de)(de)表面抛光(guang)和(he)(he)结构材(cai)料,可(ke)以满足不同行业的(de)(de)多种要(yao)求。

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  • GM2000/4高速化工级胶体磨
    高速化工级胶体磨

    高(gao)速化(hua)工(gong)(gong)级胶(jiao)体磨化(hua)工(gong)(gong)胶(jiao)体磨,化(hua)工(gong)(gong)乳(ru)化(hua)设(she)备,,化(hua)工(gong)(gong)行(xing)业许多领域都(dou)会用到乳(ru)化(hua)设(she)备对物(wu)料(liao)进行(xing)均质(zhi)胶(jiao)体磨,如:石蜡胶(jiao)体磨、硅油乳(ru)化(hua),柴油乳(ru)化(hua)等,为获得高(gao)品质(zhi)的化(hua)工(gong)(gong)乳(ru)液,就必须选择效果好的乳(ru)化(hua)设(she)备。

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  • GM2000/4超高速染料胶体磨
    超高速染料胶体磨

    GM2000系列(lie)(lie)超高速染料(liao)胶体磨(mo)与同(tong)(tong)类设(she)(she)备(bei)(bei)的(de)对比 .发热(re)问(wen)题(ti)。同(tong)(tong)类设(she)(she)备(bei)(bei)在加工过程中,高粘物(wu)料(liao)进入腔体后(hou),因背压力(li)大而输送(song)效(xiao)(xiao)果(guo)差,导致(zhi)物(wu)料(liao)在设(she)(she)备(bei)(bei)腔体中停留时间过长而导致(zhi)严(yan)重(zhong)发热(re)。GRS2000系列(lie)(lie)设(she)(she)备(bei)(bei)在确保效(xiao)(xiao)果(guo)的(de)基(ji)础上,减小了(le)背压阻力(li),提高了(le)输送(song)能力(li),减少了(le)停留时间,降(jiang)低了(le)物(wu)料(liao)发热(re)的(de)状(zhuang)况。

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