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  • GMSD2000/4GMSD2000/4纳米二氧化硅研磨分散机
    GMSD2000/4纳米二氧化硅研磨分散机

    对于纳(na)米(mi)(mi)的(de)(de)物(wu)料分(fen)散一直是人们关注(zhu)的(de)(de)热点(dian),纳(na)米(mi)(mi)分(fen)散存在着难以(yi)解决的(de)(de)问题(ti),纳(na)米(mi)(mi)物(wu)料分(fen)散到流体(ti)物(wu)质(zhi)当(dang)中容(rong)易(yi)形成二(er)级(ji)团聚体(ti),导致物(wu)料粒径(jing)变大(da),难以(yi)分(fen)散。面对这种情况,SGN研(yan)发出GMSD2000/4纳(na)米(mi)(mi)二(er)氧化(hua)硅研(yan)磨分(fen)散机(ji),应(ying)对纳(na)米(mi)(mi)物(wu)质(zhi)的(de)(de)分(fen)散问题(ti)。并有着广(guang)泛的(de)(de)实例,如纳(na)米(mi)(mi)级(ji)白(bai)炭黑的(de)(de)分(fen)散,纳(na)米(mi)(mi)级(ji)石(shi)墨烯的(de)(de)分(fen)散,都在使用SGN研(yan)磨分(fen)散机(ji)进行分(fen)散处理,*。

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  • GMSD2000/4高效石墨烯润滑油研磨分散机
    高效石墨烯润滑油研磨分散机

    高效石(shi)墨烯润滑油研磨分散机的(de)(de)特点: 1.线速度很高,剪切间(jian)隙(xi)非常小(xiao),当物料经(jing)过的(de)(de)时(shi)候(hou),形(xing)成(cheng)的(de)(de)摩(mo)擦力非常强(qiang)烈,通常所(suo)说的(de)(de)超细(xi)湿磨 2.定(ding)转子被制(zhi)成(cheng)圆椎(zhui)形(xing),具(ju)有(you)精细(xi)度递(di)升的(de)(de)三级(ji)锯齿突起和凹(ao)槽。 3.定(ding)子可(ke)以无限(xian)制(zhi)的(de)(de)被调(diao)整到(dao)所(suo)需要(yao)的(de)(de)与转子之间(jian)的(de)(de)距离 4.在增强(qiang)的(de)(de)流(liu)体(ti)湍流(liu)下(xia),凹(ao)槽在每级(ji)都可(ke)以改变方向。 5.高质量的(de)(de)表面抛光和结构材料,可(ke)以满足(zu)不(bu)同行(xing)业的(de)(de)多种(zhong)要(yao)求。 6.具(ju)体(ti)设备(bei)咨询: 公司有(you)样(yang)机提(ti)供实验(yan)。

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  • GMD2000/4德国中试型研磨分散设备
    德国中试型研磨分散设备

    SGN德国中试型研(yan)磨分散(san)(san)设备:管线式分体(ti)式结构,转(zhuan)(zhuan)速高达14000rpm,*的(de)结构设计(ji),胶体(ti)磨头+分散(san)(san)盘,先研(yan)磨后分散(san)(san)机(ji),效果更佳。采用双端面机(ji)械密封,保证冷却(que)水可(ke)24小(xiao)试运行,模块化设备可(ke)以(yi)根据物料要(yao)求更换(huan)定转(zhuan)(zhuan)子盘(变换(huan)成(cheng)乳(ru)化机(ji)、均质机(ji)、分散(san)(san)机(ji)),更灵(ling)活(huo)更有效,广(guang)泛(fan)用于各大高校和研(yan)究院(yuan)。

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  • GMD2000色素混悬油研磨分散机
    色素混悬油研磨分散机

    色素混(hun)悬油(you)研磨分(fen)散机(ji),叶(ye)黄(huang)素混(hun)悬油(you)分(fen)散机(ji),色素混(hun)悬油(you)分(fen)散机(ji)为(wei)立(li)式分(fen)体结构(gou),精(jing)密的零部件配合运(yun)(yun)转平(ping)稳(wen),运(yun)(yun)行噪音在(zai)73DB以下。同(tong)时采(cai)用德国(guo)博(bo)格曼双端面机(ji)械(xie)密封(feng),并通(tong)冷媒对密封(feng)部分(fen)进行冷却,把(ba)泄露概率(lv)降到低,保证(zheng)机(ji)器连续24小时不停机(ji)运(yun)(yun)行。

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  • GMD2000/4SGN蠕虫状膨胀石墨研磨分散设备
    SGN蠕虫状膨胀石墨研磨分散设备

    SGN蠕虫状膨胀石(shi)墨研磨分(fen)散(san)设备 上海SGN技术,*创意,融(rong)化(hua)理念(nian)。将SGN高剪切胶体(ti)(ti)磨进(jin)行进(jin)一(yi)(yi)步(bu)的(de)改良,在原来GM2000系列的(de)基础上,将单(dan)一(yi)(yi)的(de)胶体(ti)(ti)磨磨头模块(kuai),改良成两级模块(kuai),加入了一(yi)(yi)级分(fen)散(san)盘(均(jun)质盘、乳(ru)化(hua)盘)。从而形成改良型(xing)的(de)胶体(ti)(ti)磨,先(xian)研磨后分(fen)散(san)(均(jun)质、乳(ru)化(hua)),将物料的(de)处(chu)理一(yi)(yi)步(bu)到底(di)的(de)完成,我们将这种改良的(de)胶体(ti)(ti)磨也称为(wei)“研磨分(fen)散(san)机“、“研磨均(jun)质机“、“研磨乳(ru)化(hua)机“。

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  • GMSD2000石墨润滑油超高速研磨分散机
    石墨润滑油超高速研磨分散机

    石墨(mo)(mo)润(run)滑(hua)油分散(san)机,石墨(mo)(mo)润(run)滑(hua)油超(chao)高(gao)速(su)研(yan)磨(mo)分散(san)机,石墨(mo)(mo)润(run)滑(hua)油高(gao)剪切(qie)研(yan)磨(mo)分散(san)机利用德国SGN的(de)管(guan)线式超(chao)高(gao)速(su)研(yan)磨(mo)分散(san)机将(jiang)纳米(mi)级石墨(mo)(mo)均匀的(de)分散(san)到润(run)滑(hua)油中(zhong)。这样(yang)就(jiu)解(jie)决了以往国内设(she)备没法解(jie)决的(de)石墨(mo)(mo)粒度大,易沉淀等诸多问题。

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  • GMD2000/4纳米级高剪切树脂研磨分散机
    纳米级高剪切树脂研磨分散机

    纳米级(ji)高剪切树脂(zhi)研(yan)磨分散(san)机的(de)(de)(de)(de)(de)特(te)点: 1、定(ding)转子(zi)被(bei)制(zhi)成(cheng)圆椎形(xing),具有精细度(du)(du)递升的(de)(de)(de)(de)(de)三级(ji)锯齿突(tu)起和凹槽。定(ding)子(zi)可以无限制(zhi)的(de)(de)(de)(de)(de)被(bei)调整到(dao)(dao)所需(xu)要的(de)(de)(de)(de)(de)与转子(zi)之间(jian)的(de)(de)(de)(de)(de)距离(li)。 2、齿列的(de)(de)(de)(de)(de)深度(du)(du):从开始的(de)(de)(de)(de)(de)2.7mm 到(dao)(dao)末(mo)端的(de)(de)(de)(de)(de)0.7mm,范围比(bi)较大(da),范围越(yue)大(da),处理的(de)(de)(de)(de)(de)物料(liao)颗粒(li)大(da)小越(yue)广。 3、沟(gou)槽的(de)(de)(de)(de)(de)结构(gou)式斜齿,每个磨头的(de)(de)(de)(de)(de)沟(gou)槽深度(du)(du)不一样(yang),并且斜齿的(de)(de)(de)(de)(de)流(liu)道的(de)(de)(de)(de)(de)体积从上往下是从大(da)到(dao)(dao)下。

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  • GMD2000//4纳米级树脂研磨分散机
    纳米级树脂研磨分散机

    纳米级(ji)(ji)树脂研(yan)磨(mo)(mo)分(fen)散(san)(san)机(ji),树脂研(yan)磨(mo)(mo)分(fen)散(san)(san)机(ji),高(gao)剪切研(yan)磨(mo)(mo)分(fen)散(san)(san)机(ji)GMD2000系列是(shi)由(you)胶体磨(mo)(mo)和(he)分(fen)散(san)(san)机(ji)组合而(er)成的(de)高(gao)科(ke)技产(chan)品,它(ta)的(de)一级(ji)(ji)是(shi)胶体磨(mo)(mo)的(de)三级(ji)(ji)研(yan)磨(mo)(mo)头,由(you)粗至细至超细,可将较(jiao)粗颗粒(li)研(yan)磨(mo)(mo)至超细;二级(ji)(ji)连接(jie)一个超细齿(chi)的(de)分(fen)散(san)(san)头,转速9000rpm,可将纳米级(ji)(ji)颗粒(li)瞬间进(jin)行分(fen)散(san)(san),防止颗粒(li)抱团。

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