GM2000/04实验(yan)室高剪切胶体磨在一般的(de)(de)情况(kuang)下，我们的(de)(de)机(ji)械(xie)密封(feng)可以zui大(da)承(cheng)受16bar 压(ya)力(li)，根据机(ji)械(xie)密封(feng)的(de)(de)压(ya)力(li)一般要高(gao)于密封(feng)腔体的(de)(de)压(ya)力(li)2-3bar ,这就决定我们的(de)(de)入(ru)口(kou)zui大(da)压(ya)力(li)可以达到(dao)12-13 bar .

同(tong)时(shi)机械(xie)密(mi)封的使用寿(shou)命和以(yi)下因素有关：

满(man)足以下条件(jian)使得机(ji)械密封的(de)使用寿(shou)命更长(zhang):

- 可允许的压(ya)力比率

- 充(chong)份的冷却和湿度

- 材(cai)料的合适搭配.

机械密封本身(shen)会产生(sheng)磨损和破裂. 磨损得(de)主要原因是:

- 压(ya)力差

- 温度

- 分(fen)散(san)物料的腐(fu)蚀性

- 密封的材料

      GM2000/04实验(yan)室高剪切胶体磨的(de)细化作用(yong)(yong)一般来(lai)说要弱于均质机，但它(ta)对(dui)物(wu)料的(de)适应能(neng)力较强（如高(gao)粘(zhan)度(du)、大颗粒），所以(yi)在很多场合下(xia)，它(ta)用(yong)(yong)于均质机的(de)前道或(huo)者用(yong)(yong)于高(gao)粘(zhan)度(du)的(de)场合。在固态物(wu)质较多时也(ye)常(chang)(chang)常(chang)(chang)使用(yong)(yong)胶体磨进行细化。

      公 司(si)另外一(yi)项*的(de)(de)创新(xin)，就(jiu)是锥体磨(mo)GMO2000系列，它的(de)(de)设计使其功能(neng)在原有的(de)(de)GM2000的(de)(de)基础上又进了(le)一(yi)步。由于(yu)这项创新(xin)，GMO2000能(neng)够湿磨(mo) 和研(yan)(yan)(yan)磨(mo)，产生(sheng)的(de)(de)颗粒(li)粒(li)径(jing)甚至比胶体磨(mo)GM2000还小。研(yan)(yan)(yan)磨(mo)间隙可(ke)(ke)以无级调节，从而可(ke)(ke)以得到精(jing)确的(de)(de)研(yan)(yan)(yan)磨(mo)参数。研(yan)(yan)(yan)磨(mo)头(tou)(tou)的(de)(de)表面涂上了(le)一(yi)层极其坚(jian)硬(ying)的(de)(de)硬(ying)质(zhi)材(cai)料， 从而使其表面具(ju)有非常粗糙的(de)(de)纹(wen)理(li)。这种(zhong)硬(ying)质(zhi)材(cai)料是由碳化物、陶瓷等高质(zhi)量物质(zhi)构成(cheng)，并且(qie)具(ju)有不同的(de)(de)粒(li)径(jing)。研(yan)(yan)(yan)磨(mo)头(tou)(tou)处形成(cheng)了(le)一(yi)个具(ju)有强烈(lie)剪切的(de)(de)区(qu)域，可(ke)(ke)以输送 高粘(zhan)度(du)和低粘(zhan)度(du)物料，但它的(de)(de)分散(san)效(xiao)果(guo)(guo)和zui后的(de)(de)粒(li)径(jing)大小都(dou)比胶体磨(mo)GM的(de)(de)效(xiao)果(guo)(guo)更加理(li)想。

        GM2000/04实验室高剪切胶体(ti)磨的技术(shu)参数(shu)：功率1.5-2.2KW,转速(su)0-14000rpm,线速(su)度 0-40m/s,电压380V,机(ji)器产量为 0– 700 升/小(xiao)时(shi)（水），重量35KG,尺(chi)寸(cun) (长宽高）(450X250X350)MM，LP使(shi)(shi)用(yong)轴封（PTFE 环(huan)），在正常的情况下，一(yi)般轴封可以(yi)(yi)使(shi)(shi)用(yong)3000-4000次。LP不能24小(xiao)时(shi)连(lian)(lian)续(xu)使(shi)(shi)用(yong)，一(yi)般zui多可以(yi)(yi)使(shi)(shi)用(yong)连(lian)(lian)续(xu)半个小(xiao)时(shi)，这要依据料液的温度和转速(su)而定。LP也可以(yi)(yi)通(tong)过变换模块(kuai)，可以(yi)(yi)实(shi)现多功能多用(yong)途，是实(shi)验室(shi)中试生产的选择。

实(shi)(shi)验(yan)室胶(jiao)体(ti)磨是由(you)电动(dong)(dong)机通过皮带传动(dong)(dong)带动(dong)(dong)转齿(chi)（或称(cheng)为(wei)转子(zi)）与相(xiang)配的(de)定(ding)齿(chi)（或称(cheng)为(wei)定(ding)子(zi)）作相(xiang)对的(de)高速(su)旋(xuan)转，被加工物(wu)(wu)料通过本身的(de)重(zhong)量或外(wai)部压力(li)（可由(you)泵产生）加压产生 向(xiang)下的(de)螺旋(xuan)冲击力(li)，透过实(shi)(shi)验(yan)室胶(jiao)体(ti)磨定(ding)、转齿(chi)之间(jian)的(de)间(jian)隙(xi)（间(jian)隙(xi)可调）时(shi)受到强大的(de)剪切力(li)、摩擦力(li)、高频振动(dong)(dong)等物(wu)(wu)理作用，使物(wu)(wu)料被有效地乳(ru)化、分散和(he)粉碎，达到物(wu)(wu)料超细(xi)粉碎及乳(ru)化的(de)效果。 

      GM2000/04实验(yan)室高(gao)剪切胶体磨的技术(shu)参(can)数：功(gong)率2.2KW，转速0~14000rpm，线速度0~44m/s，电压380V，机器产量为0~700升/小(xiao)时(shi)（水），重量45KG，尺寸(长宽高450X250X350)mm，使用双机械(xie)密(mi)封(feng)，可24小(xiao)时(shi)不(bu)停机连续生产，并(bing)通冷媒(mei)对密(mi)封(feng)部分进行冷却(que)。机械(xie)密(mi)封(feng)和(he)机械(xie)设计符合(he)3A健康(kang)标准，是(shi)实验(yan)和(he)中试生产的(de)选择。

GM2000/4管(guan)线(xian)式高剪切胶体(ti)磨(mo)的技术优势(shi)主(zhu)要体(ti)现在以(yi)下(xia)几(ji)个方面——

1. 转(zhuan)速相较其它厂家2900转(zhuan)左右高出三倍(bei)

GM2000/4为(wei)立式分体式结(jie)构，通(tong)过皮带传动，并实(shi)现(xian)加(jia)速，加(jia)速比为(wei)3：1即正常50HZ频(pin)率下转速为(wei)7890RPM，外加(jia)变频(pin)可达(da)13789RPM。GM2000/4分散头直径为55mm。

    我们的磨头的结构：沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下，而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道 体积是一样大，这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。
      GM2000/4 实验室胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GM2000/4实验室胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小， 这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。 GM2000/4实验室胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯 齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满 足不同行业的多种要求。