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头孢噻肟钠胶体磨

简要描述:

头孢噻肟(wo)钠胶体(ti)磨(mo)的(de)细(xi)(xi)化(hua)作用一般(ban)来说要弱(ruo)于均质机,但它对物料的(de)适应能力较(jiao)强(如高粘度、大颗粒(li)),所以在(zai)很多场合(he)(he)下(xia),它用于均质机的(de)前道或(huo)者用于高粘度的(de)场合(he)(he)。在(zai)固态物质较(jiao)多时也常常使(shi)用胶体(ti)磨(mo)进行细(xi)(xi)化(hua)。

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头孢噻肟钠胶体磨

产品(pin)名的概述:头孢噻肟钠胶体磨,头孢噻肟钠管(guan)线式胶(jiao)体(ti)磨,头孢噻肟钠高(gao)剪切胶体磨,头孢噻(sai)肟钠三级高剪切胶(jiao)体磨,SGN胶体(ti)磨,胶体(ti)磨供应商

头孢(bao)噻肟钠的简述以下(xia):

适应症

适用于敏感细菌所致的(de)肺炎及其他下(xia)呼吸道(dao)感染(ran)(ran)(ran)、尿路感染(ran)(ran)(ran)、脑膜炎、败血(xue)症、腹腔感染(ran)(ran)(ran)、盆腔感染(ran)(ran)(ran)、皮肤(fu)软组(zu)织(zhi)感染(ran)(ran)(ran)、尿道(dao)感染(ran)(ran)(ran)、骨和关节(jie)感染(ran)(ran)(ran)等。头孢噻肟可(ke)以作为小(xiao)儿脑膜炎的(de)选(xuan)用药物。

规格(ge)

按G16H17N5O7S2计算(1)0.5g(2)1.0g(3)2.0g(4)3.0g(5)4.0g

用法用量

一日2~6g,分2~3次静脉注射或静脉滴注;严重感染(ran)者每(mei)(mei)6~8小时2~3g,一日zui高剂量不超过12g。治疗无(wu)并(bing)发症的肺(fei)炎(yan)链球菌(jun)肺(fei)炎(yan)或急性尿路感染(ran),每(mei)(mei)12小时1g。
新生(sheng)儿日龄小(xiao)于等于7日者每12小(xiao)时50mg/kg,出生(sheng)大于7日者,每8小(xiao)时50mg/kg。治疗脑(nao)膜(mo)炎患(huan)者剂量可增至每6小(xiao)时75mg/kg,均以静脉给药。
严(yan)重肾功能减退(tui)病人(ren)应用本(ben)品时(shi)须适(shi)当(dang)减量(liang)。血(xue)清肌(ji)酐(gan)值超过424μmol/L(4.8mg)或肌(ji)酐(gan)清除率(lv)低于20ml/分时(shi),本(ben)品的维(wei)持量(liang)应减半;血(xue)清肌(ji)酐(gan)超过751μmol/L(8.5mg)时(shi),维(wei)持量(liang)为正常(chang)量(liang)的1/4。需血(xue)液(ye)透析者一日0.5~2g。但在透析后应加用1次(ci)剂量(liang)。

注(zhu)射(she)液胶(jiao)体(ti)磨 如特别(bie)是(shi)一(yi)种硫酸头(tou)孢喹肟注(zhu)射(she)液及(ji)其(qi)制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)作(zuo)工艺(yi)。该注(zhu)射(she)液的(de)(de)(de)组(zu)成为含头(tou)孢喹肟不低于50g-300g的(de)(de)(de)硫酸头(tou)孢喹肟微(wei)粉、抗氧(yang)剂(ji)0.4g-40g、脂类或酯类有机(ji)溶(rong)剂(ji)加至10000ml。制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)作(zuo)工艺(yi)将抗氧(yang)剂(ji)溶(rong)于脂类或酯类有机(ji)溶(rong)剂(ji),过滤至混合罐中,将硫酸头(tou)孢喹肟微(wei)粉加入,搅(jiao)匀(yun),过胶(jiao)体(ti)磨磨细(xi)(xi),制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)成均匀(yun)的(de)(de)(de)混悬液,搅(jiao)拌、分装、灭菌。本发(fa)明(ming)解决了现有技术存(cun)在的(de)(de)(de)国(guo)(guo)内没(mei)有第四代动(dong)(dong)物(wu)头(tou)孢类抗菌素的(de)(de)(de)问题,具有所制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)备(bei)的(de)(de)(de)产(chan)品与第三代头(tou)孢菌素相比,抗菌谱更广,抗菌活性更强,对细(xi)(xi)菌产(chan)生的(de)(de)(de)β-内酰胺酶(mei)更稳定(ding),*国(guo)(guo)内没(mei)有第四代动(dong)(dong)物(wu)头(tou)孢类抗菌素制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)剂(ji)的(de)(de)(de)空白,整体(ti)制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)备(bei)工艺(yi)简(jian)单易行。

 

头孢(bao)噻肟钠胶体磨的(de)(de)细(xi)化(hua)(hua)作用(yong)一般(ban)来说(shuo)要弱于(yu)均(jun)质机(ji),但它(ta)(ta)对物料的(de)(de)适应(ying)能力较(jiao)强(qiang)(如高粘度、大颗粒),所以在(zai)很多(duo)(duo)场合(he)下,它(ta)(ta)用(yong)于(yu)均(jun)质机(ji)的(de)(de)前道或者用(yong)于(yu)高粘度的(de)(de)场合(he)。在(zai)固态物质较(jiao)多(duo)(duo)时也常常使用(yong)胶体磨进行细(xi)化(hua)(hua)。


GM2000系列是专门为胶体(ti)(ti)溶(rong)液生产所(suo)设计,特(te)别是那些需要很好乳化和(he)分散效果的(de)胶体(ti)(ti)生产。GM2000的(de)线速(su)度很高,剪切间隙非常(chang)小(xiao),这样当(dang)物料经过的(de)时(shi)候,形(xing)成的(de)摩擦力就比较剧烈(lie),结果就是通常(chang)所说(shuo)的(de)湿磨。定(ding)转(zhuan)子被制成圆椎形(xing),具有精细(xi)度递升(sheng)的(de)三级(ji)锯齿突起(qi)和(he)(he)凹(ao)槽(cao)。定(ding)子可(ke)以(yi)无限(xian)制的(de)被调整到所需要(yao)的(de)与转(zhuan)子之间的(de)距离。在增强的(de)流(liu)体湍流(liu)下,凹(ao)槽(cao)在每级(ji)都可(ke)以(yi)改变方(fang)向。高质(zhi)量的(de)表(biao)面抛光和(he)(he)结构材料,可(ke)以(yi)满足不(bu)同行业的(de)多种(zhong)要(yao)求。 

胶(jiao)体磨选型表

型号

标准(zhun)流量

L/H

输出转(zhuan)速

rpm

标准线(xian)速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

GM2000/4

300-1,000

9,000

23

2.2

DN25

DN15

GM2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40

DN32

GM2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50

DN50

GM2000/20

20,000

3,000

23

37

DN80

DN65

GM2000/30

40,000

1,500

23

55

DN150

DN125

GM2000/40

70,000

1,500

23

90

DN150

DN125

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