光刻胶去除剂高剪切分散机

• 产品名称关键词(ci)：光刻胶去除剂分散(san)机(ji)，高剪切清(qing)洗液均质机(ji)，氧(yang)化(hua)物抛光液研磨(mo)分散(san)机(ji)，超高速三级乳化(hua)机(ji)

二、光刻胶去(qu)除(chu)剂(ji)

根据(ju)光(guang)刻胶下游应(ying)用(yong)领域(yu)不同，公司光(guang)刻胶去(qu)除(chu)剂(ji)包(bao)括集成电路制造用(yong)、晶(jing)圆级封装用(yong)、LED/OLED用(yong)等系列产品，是用(yong)于(yu)图形化(hua)工艺光(guang)刻胶残留(liu)物去(qu)除(chu)的湿化(hua)学品，通过将半(ban)导(dao)体(ti)(ti)晶(jing)片浸入清洗液中(zhong)或(huo)者利用(yong)清洗液冲(chong)洗半(ban)导(dao)体(ti)(ti)晶(jing)片，去(qu)除(chu)半(ban)导(dao)体(ti)(ti)晶(jing)片上的光(guang)刻胶残留(liu)物。

三(san)、光刻胶(jiao)去除技术

随(sui)着集(ji)成电路技术(shu)的发展(zhan)，其关键(jian)尺寸逐渐降低到亚微米。湿法蚀(shi)刻工艺因其各向蚀刻特性，越来越不能满足需求，干法蚀刻工艺应运而生。干法蚀刻工艺提供各向异性蚀刻形成金属线（metal）、通孔（via）的同时，其离子束对光刻胶及铝硅铜、铝铜、氧化物非介电质材质进行轰击，使其表面形成高度交联的光刻胶残留物，同时因氩气轰击反溅作用，侧壁富含金属材质。干法灰化工艺的采用，使其残留物中含有有机、无机氧化物及其金属化合物。这就要求光刻胶去除同时具有有机残留物、无机残留物以及金属交联残留物去除能力。

四、光刻胶剥离液氧(yang)化物分散问题(ti)

在制备(bei)光(guang)(guang)刻(ke)胶去(qu)除剂中(zhong)，需(xu)要加入一些无机(ji)氧化(hua)物或金属(shu)化(hua)合物，以粉体的(de)(de)形(xing)式加入液(ye)中(zhong)，纳(na)米的(de)(de)细小颗粒与液(ye)体介质充分(fen)接(jie)触时候，粒子相(xiang)互之间(jian)的(de)(de)团(tuan)(tuan)聚(ju)力导致粉体出现团(tuan)(tuan)聚(ju)现象，光(guang)(guang)刻(ke)胶去(qu)除剂的(de)(de)技(ji)术(shu)要求(qiu)，需(xu)将氧化(hua)物粉体在液(ye)相(xiang)中(zhong)均(jun)质打开，分(fen)散均(jun)匀。GRS超高速研磨分(fen)散机(ji)是(shi)我公司德国(guo)技(ji)术(shu)的(de)(de)主要产(chan)品，可很好的(de)(de)解聚(ju)，均(jun)质，分(fen)散。得到更稳定(ding)的(de)(de)悬浮液(ye)。

五、GRS超高速研磨分散机的优势

研(yan)磨(mo)分散机是由电动机通过(guo)皮带传(chuan)动带动转(zhuan)齿(chi)(chi)（或称(cheng)(cheng)为转(zhuan)子(zi)）与相配(pei)的(de)定(ding)齿(chi)(chi)（或称(cheng)(cheng)为定(ding)子(zi)）作相对的(de)高(gao)速旋(xuan)转(zhuan)，被加(jia)工物(wu)(wu)料通过(guo)本身的(de)重量或外(wai)部压(ya)力(li)（可(ke)由泵(beng)产生(sheng)）加(jia)压(ya)产生(sheng)向(xiang)下的(de)螺(luo)旋(xuan)冲击力(li)，透过(guo)胶(jiao)体(ti)磨(mo)定(ding)、转(zhuan)齿(chi)(chi)之(zhi)间的(de)间隙（间隙可(ke)调(diao)）时受到(dao)强大的(de)剪切力(li)、摩(mo)擦力(li)、高(gao)频振动等(deng)物(wu)(wu)理作用(yong)，使物(wu)(wu)料被有效(xiao)地乳化、分散和(he)粉(fen)碎，达到(dao)物(wu)(wu)料超(chao)细粉(fen)碎及乳化的(de)效(xiao)果。

研磨分(fen)散(san)机的(de)细化作(zuo)用(yong)一般来说要强于均(jun)(jun)质机，但它(ta)对物料的(de)适应能力(li)较(jiao)强（如高粘度(du)、大(da)颗粒），所以在(zai)很多场合下，它(ta)用(yong)于均(jun)(jun)质机的(de)前道或者用(yong)于高粘度(du)的(de)场合。 

1. 超高(gao)剪切速(su)(su)率，SID研(yan)磨分散机，转速(su)(su)高(gao)达18000rpm，线速(su)(su)度(du)为(wei)(wei)44m/s，剪切速(su)(su)率为(wei)(wei)约为(wei)(wei)200000 S-1。而国(guo)内普(pu)通分散机的(de)(de)转速(su)(su)一般为(wei)(wei)3000rpm，我们(men)的(de)(de)转速(su)(su)是他们(men)的(de)(de)4-5倍(bei)。

1. 超(chao)细定转子间(jian)隙，SID研(yan)磨分散(san)机定转子间(jian)隙一般为(wei)0.2-0.3mm，而国(guo)产分散(san)设备一般为(wei)0.5-0.7mm，间(jian)隙越小研(yan)磨分散(san)效果越好。

1. 高精密度磨头分(fen)散(san)盘定转子(zi)，分(fen)散(san)盘分(fen)为粗(cu)、中、细(xi)(xi)、超细(xi)(xi)齿。  
2.  

4、全新的(de)结构设(she)计，将(jiang)胶(jiao)体磨(mo)(mo)和(he)分(fen)散(san)机(ji)一体化的(de)设(she)备，胶(jiao)体磨(mo)(mo)磨(mo)(mo)头+分(fen)散(san)盘定转子(zi)，先研磨(mo)(mo)后分(fen)散(san)效果(guo)更佳。

六、高剪切(qie)研(yan)磨分散机

研磨(mo)式分(fen)散机(ji)是(shi)由(you)胶体磨(mo),分(fen)散机(ji)组合(he)而成的(de)高(gao)科(ke)技产(chan)品(pin)。

*级由具有精(jing)细度(du)递升(sheng)的(de)(de)三级锯齿突起(qi)和(he)凹槽(cao)。定子(zi)可(ke)以无限制的(de)(de)被调整到所需要的(de)(de)与(yu)转(zhuan)子(zi)之(zhi)间的(de)(de)距离。在增强的(de)(de)流(liu)体湍流(liu)下，凹槽(cao)在每级都可(ke)以改变方向。

第二级(ji)由(you)转定(ding)子(zi)(zi)(zi)组成(cheng)。分散头(tou)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)设计也很好(hao)地满足(zu)不(bu)同(tong)粘度的(de)(de)(de)(de)(de)(de)物质(zhi)以(yi)(yi)及颗粒粒径的(de)(de)(de)(de)(de)(de)需要(yao)(yao)。在(zai)线式的(de)(de)(de)(de)(de)(de)定(ding)子(zi)(zi)(zi)和(he)(he)转子(zi)(zi)(zi)（乳化头(tou)）和(he)(he)批次式机器(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)工(gong)作(zuo)头(tou)设计的(de)(de)(de)(de)(de)(de)不(bu)同(tong)主要(yao)(yao)是因为在(zai)对(dui)输送(song)性的(de)(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求方(fang)面，特(te)别(bie)(bie)要(yao)(yao)引起(qi)注意(yi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)是：在(zai)粗精度、中(zhong)等(deng)精度、细精度和(he)(he)其他(ta)一些工(gong)作(zuo)头(tou)类型之间的(de)(de)(de)(de)(de)(de)区别(bie)(bie)不(bu)光是转子(zi)(zi)(zi)齿(chi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)排(pai)列，还有一个很重要(yao)(yao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)区别(bie)(bie)是不(bu)同(tong)工(gong)作(zuo)头(tou)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)几何学特(te)征(zheng)不(bu)一样(yang)。狭槽(cao)数、狭槽(cao)宽度以(yi)(yi)及其他(ta)几何学特(te)征(zheng)都(dou)能(neng)改变定(ding)子(zi)(zi)(zi)和(he)(he)转子(zi)(zi)(zi)工(gong)作(zuo)头(tou)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)不(bu)同(tong)功能(neng)。根据(ju)以(yi)(yi)往的(de)(de)(de)(de)(de)(de)惯例，依(yi)据(ju)以(yi)(yi)前(qian)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)经验(yan)工(gong)作(zuo)头(tou)来满足(zu)一个具体的(de)(de)(de)(de)(de)(de)应用。在(zai)大(da)多(duo)数情况(kuang)下(xia)(xia)，机器(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)构造(zao)是和(he)(he)具体应用相(xiang)匹配的(de)(de)(de)(de)(de)(de)，因而(er)它对(dui)制(zhi)造(zao)出终(zhong)产品(pin)是很重要(yao)(yao)。当不(bu)确(que)定(ding)一种(zhong)工(gong)作(zuo)头(tou)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)构造(zao)是否满足(zu)预期的(de)(de)(de)(de)(de)(de)应用。线速度很高，剪(jian)切间隙非常小，这样(yang)当物料经过(guo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)时候(hou)，形(xing)成(cheng)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)摩擦力就比(bi)较剧(ju)烈，结果(guo)就是通常所说的(de)(de)(de)(de)(de)(de)湿磨(mo)。定(ding)转子(zi)(zi)(zi)被制(zhi)成(cheng)圆椎形(xing)，具有精细度递升的(de)(de)(de)(de)(de)(de)三级(ji)锯齿(chi)突起(qi)和(he)(he)凹槽(cao)。定(ding)子(zi)(zi)(zi)可以(yi)(yi)无(wu)限制(zhi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)被调整(zheng)到所需要(yao)(yao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)与转子(zi)(zi)(zi)之间的(de)(de)(de)(de)(de)(de)距离。在(zai)增强(qiang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)流(liu)体湍(tuan)流(liu)下(xia)(xia)，凹槽(cao)在(zai)每级(ji)都(dou)可以(yi)(yi)改变方(fang)向(xiang)。高质(zhi)量的(de)(de)(de)(de)(de)(de)表面抛光和(he)(he)结构材料，可以(yi)(yi)满足(zu)不(bu)同(tong)行(xing)业的(de)(de)(de)(de)(de)(de)多(duo)种(zhong)要(yao)(yao)求

 
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以下(xia)为(wei)型号表供参考：

光刻胶去除剂高剪切分散机